溅射靶材介绍及行业分类是什么？

众所周知，溅射靶材的规格很多，应用行业也很广泛。不同行业常用的靶材种类也不同。今天我们就来看看溅射靶材的介绍和行业分类。

一、溅射靶材的简介

1、溅射

溅射是一种物理气相沉积技术。它利用离子源产生的离子在真空中加速聚集，形成高速离子束流，轰击固体表面。离子与固体表面原子发生动能交换，使固体表面原子离开固体，沉积在基底表面。

2、溅射靶材

溅射靶材是溅射过程中高速离子束流轰击的目标材料，是沉积膜的原料。

二、溅射靶材行业分类

1、半导体用靶材

 (1)常用靶材:该行业常用的靶材包括钽/铜/钛/铝/金/镍/高熔点金属/铬等。

（2）用途：主要用于集成电路的关键原材料。

（3）性能要求：对于纯度、尺寸、集成度等的技术要求zui高。

2、平面显示器用靶材

（1）常用靶材：该行业常用的靶材有铝/铜/钼/镍/铌/硅/铬/ITO等。

（2）用途：这里的靶材主要用于电视和笔记本电脑的各种大面积膜层。

 (3)性能要求:对纯度、大面积、均匀性等技术要求较高。

3、太阳能电池用靶材

（1）常用靶材：太阳能电池常用铝/铜/钼/铬/ITO/AZO/ZnS/Ta等靶材。

 (2)用途:主要用于窗层、阻挡层、电极、导电膜等场合。

（3）性能要求：技术要求高，应用范围比较广。

4、信息存储用靶材

(1)常用靶材:常用钴/镍/铁合金/铬/钴/硒/稀土迁移金属等。

(2)用途:这里的靶材主要用于光驱和光盘的磁头、中间层和底层。

(3)性能要求:对高存储密度、高传输速度的要求较高。

5、工具改性用靶材

(1)常用靶材:工具改性常用钛/锆/格/铬铝合金等靶材。

(2)用途:通常用于表面强化。

(3)性能要求:性能要求高，使用寿命长。

6.靶材用于电子设备。

（1）常用靶材：电子器件常用铝合金/硅化物靶材。

 (2)用途:一般用于薄膜电阻和电容。

（3）性能要求：尺寸小、稳定性小、电阻温度系数小。

7、其他

(1)常用靶材:其他常用靶材包括氧化物/石英/硅/钛/钽等。

(2)用途:主要用于装饰涂料和玻璃涂料。

(3)性能要求:该靶材对技术要求一般。

以上是溅射靶材介绍和行业分类的全部内容。通过以上介绍，可以看出靶材种类繁多，不同材质的靶材适合不同的行业，性能要求也不同。