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溅射靶材因其自身，溅射靶材已广泛应用于电子工业、太阳能电池、玻璃涂层等领域。随着现代科技微型化、集成化、数字化、智能化的快速发展，钼靶材料的用量将继续增加，质量要求也将越来越高。所以有必要对钼靶材的利用率进行提高，下面小编就来介绍几点提高溅射靶材利用率的措施。
1、背面加电磁线圈
平面钼靶
为了提高钼靶的利用率，可以在平面磁控溅射钼靶背面加一圈电磁线圈，通过电磁线圈的电流改变钼靶表面的磁场大小，提高钼靶的利用率。除提高利用率外，还能提高溅射效率。
2、采用管状旋转靶材
与平面靶材相比，管状旋转靶材结构的设计体现了其实质性优势。一般来说，平面靶材的利用率较低，仅为30%~50%。因此，许多制造商现在正在使用旋转空心圆管磁控溅射靶材。其优点是靶材可绕固定条状磁组件旋转，靶面360°可均匀蚀刻，利用率可从平面靶材的30%~50%提高到80%以上。此外，旋转靶的寿命要比平面靶材高5倍。由于旋转靶材在溅射过程中不停的旋转，在它的表面不会产生重沉积现象。
3、更换新型溅射设备
提高靶材利用率的关键在于实现溅射设备的更新换代。钼溅射靶原子在溅射过程中被氢离子撞击后，约六分之一的溅射原子会积聚在真空室内壁或支架上，增加清洁真空设备的成本和停机时间。因此，设备的更新也有助于提高溅射钼靶的利用率。
以上是如何提高溅射靶材利用率的答案。要提高溅射靶材的利用率和效率，一是背面加电磁线圈，二是将平面靶材改为管状旋转靶材，通过更新溅射设备，增加靶材规格。
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