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一、溅射准备
保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。润滑油、灰尘和早期涂层形成的任何残留物都会收集水、气等污染物，直接影响真空获取，增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙，化学杂质含量超标，往往是溅射室、溅射枪、靶材不洁造成的。
1.为了保持涂层的组成特性，溅射气体（氩气或氧气）必须清洁和干燥。将溅射靶材放入基底后，需要排出空气，以满足工艺要求的真空度。
2.暗区屏蔽罩，腔壁及相邻表面也需保持清洁。在清洗真空腔体时我们建议采用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气清除腔体四周前期溅射剩余物，再用氧化铝浸渍过的沙纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后，用酒精、丙酮和去离子水清洗，建议使用工业真空吸尘器辅助清洗。
3.高纯金属生产的溅射靶材采用真空密封塑料袋包装，内置防潮剂。使用靶材时请不要用手直接接触靶材。注意：使用靶材时请配带干净而且不会起绒的保护手套，避免用手直接接触靶材。
二、靶材清洁
目标清洁的目的是去除目标表面可能存在的灰尘或污垢。金属靶材可以通过四步清洁：
一、用在丙酮中浸泡过的无绒软布清洁；
二、与之前步骤类似用酒精清洁；
三、用去离子水清洗。用去离子水清洗后，将靶材放入烤箱中，100摄氏度干燥30分钟。建议用无绒布清洗氧化物和陶瓷靶材。
四、用氩气冲洗靶材，以去除溅射系统中所有可能产生弧的杂质颗粒。
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