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购买金属旋转靶材的技术指标及注意事项有哪些?

2022-04-08 16:11:41

购买金属旋转靶材的技术指标及注意事项有哪些?


对于所有的金属来说纯度是靶材的主要性能指标之一,为什么这么说呢?靶材的纯度对后期产品薄膜的性能影响很大。但每种产品对靶材的纯度要求也有所不同。例如,微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”,8“发展到12”,而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,在以前的技术要示上对于靶材纯度是99.995%的靶材是完全可以满足0.35umIC的工艺要求,但是现在而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。说到纯度,再说目标材料的杂质含量。目标材料的杂质含量是什么?


在经过一系列的靶材工艺处理后靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。由于用途不同,不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业中使用的纯铝和铝合金靶材对碱金属含量和放射性元素含量有特殊要求。


密度也是靶材的关键性能指标之一。为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射膜的性能,一般要求靶材密度较高。由于靶材的主要特性密度对溅射速率有很大的影响,并影响薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。


通常靶材为多晶结构,晶粒尺寸可从微米到毫米量级。对于同一靶材,小晶粒靶的溅射速率快于大晶粒靶的溅射速率;小晶粒尺寸(均匀分布)靶溅射沉积膜的厚度分布更均匀。同时,用我们的专业技术和热情的服务护送您对靶材的高标准和严格要求。


旋转靶材

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