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物理性质
靶材名称：硅靶材
元素代号：Si
颜色：灰色金属光泽
密度：2.4g/cm³
熔点：1410℃
纯度：99.99%
相对致密度：>99%
切面平整度：3.2Ra
公差：±0.1mm
晶粒度：均匀
制作工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和机械
产品用途：真空镀膜，实验或研究级别用硅靶材，电子，光电，装饰镀，功能薄膜等
喷涂硅靶材优点
1.质量可靠，价格优惠
2.真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少
3.轧制致密，氧化少，成型可塑
4.相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高
