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硅靶材

硅靶材

  • 所属分类:硅靶材
  • 浏览次数:
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  • 发布时间:2022-05-16 15:36:46
  • 产品概述

物理性质

靶材名称:硅靶材

元素代号:Si

颜色:灰色金属光泽

密度:2.4g/cm³

熔点:1410℃

纯度:99.99%

相对致密度:>99%

切面平整度:3.2Ra

公差:±0.1mm

晶粒度:均匀

制作工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和机械

产品用途:真空镀膜,实验或研究级别用硅靶材,电子,光电,装饰镀,功能薄膜等


硅靶材优点

1.质量可靠,价格优惠

2.真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少

3.轧制致密,氧化少,成型可塑

4.相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

硅靶材


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