陶瓷靶材是一种用于制备薄膜材料等的靶材,具有较高的熔点和抗腐蚀性能。下面将介绍几种常见的陶瓷靶材制作方法。
烧结法: 烧结法是常见、经典的陶瓷靶材制备方法之一。将所需陶瓷粉末与添加剂混合,并进行球磨处理,以获得均匀的材料颗粒。然后,将混合粉末压制成靶材形状,并通过高温烧结使颗粒结合。对烧结体进行进一步的加工,如磨削和抛光,以获得所需的陶瓷靶材。
溶胶-凝胶法: 溶胶-凝胶法是一种将溶胶转化为凝胶,通过加热处理得到陶瓷靶材的方法。通过溶胶的凝胶作用使溶胶逐渐形成凝胶,随后对凝胶进行干燥和热处理,以去除其内部的溶剂和有机物。通过进一步的热处理,使凝胶形成陶瓷靶材。这种方法适用于制备复杂形状的陶瓷靶材。
气相沉积法: 气相沉积法是一种通过将气体反应在基底上来制备陶瓷靶材的方法。在高温下,使金属有机化合物或金属气体分解为金属,然后通过化学反应,将金属再生长为所需的氧化物陶瓷。该方法可获得高纯度、致密和均匀的陶瓷靶材,并且适用于大面积陶瓷薄膜的制备。
涂布法: 涂布法是一种将陶瓷粉末与有机胶粘剂混合并涂覆在基底上的方法。将陶瓷粉末与有机胶粘剂混合,并分散均匀,形成粉末浆料。然后,将浆料涂覆在基底上,并通过烘干和热处理,使胶粘剂烧蚀并粘合陶瓷粉末,形成陶瓷靶材。涂布法适用于复杂形状和大面积的陶瓷靶材制备。
浸渍法: 浸渍法是一种将基底浸渍在陶瓷溶液中,然后通过热处理形成陶瓷靶材的方法。将基底浸入陶瓷溶液中,使溶液渗入基底孔隙中。然后,通过热处理,使溶液中的溶质在基底孔隙中形成陶瓷。该方法适用于多孔陶瓷材料的制备。
电化学沉积法: 电化学沉积法是一种利用电解反应在电极表面形成陶瓷层的方法。将电极浸泡在陶瓷溶液中,并通过施加电压和电流,使溶液中的金属离子还原并沉积在电极表面。随着反应的进行,金属层逐渐转化为陶瓷层。该方法适用于制备薄而致密的陶瓷靶材。
以上是几种常见的陶瓷靶材制作方法。不同的方法适用于不同的陶瓷材料和制备要求,可以根据实际需要选择合适的方法。