高纯铝靶材

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高纯铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，元素代号为AI，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

用途

适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铝靶材的价格较低，所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。

分类

铝靶材有平面铝靶材和旋转铝靶材之分平面铝靶材是片状的，有圆形、方形等。

旋转铝靶材是管状的，利用效率高，但不易加工，要通过高纯铝挤压、拉伸、校直热处理，机加工等多种加工工序才能制得铝旋转靶材成品。

高纯铝靶材