铬靶材是一种广泛应用的材料,它具有高强度、高硬度、高耐腐蚀性、高导电性和高熔点等优良性能,因此被广泛用于许多领域,特别是在制造电子器件和薄膜材料时非常常见。
铬靶材的制备
铬靶材制备方法多种多样,常用的包括电子束熔融法、直流磁控溅射法、射频磁控溅射法、物理气相沉积法和电弧溅射法等。其中,直流磁控溅射法是常用的方法之一,它可以制备出高质量、高纯度的铬靶材。
铬靶材的物理性能
靶材名称:镍铬靶材
元素代号:Cr
密度:7.14 g/cm³
熔点:1907℃
晶格结构:体心立方结构
热导率: 0.935 W/(m·K)