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随着市场高科技产品的不断研发，目标材料也经常出现在市场上，溅射目标材料就是其中之一，性能优异，很受市场欢迎，但有很多人不知道溅射目标材料是什么，今天小编介绍溅射目标材料的使用和工作原理！
一、溅射靶材的用途
1、微电子领域
在各种应用行业中，半导体行业对靶溅射膜的质量要求非常严格。例如，硅片制造商的要求是高纯度、大尺寸、细颗粒和低偏析，因此需要更好的微观结构。
2、显示器
近年来，平面显示器对以阴极射线管为主的计算机显示器和电视产生了很大的影响，因此也带动了靶材的技术和市场需求。目前，飞机显示器的薄膜大多是溅射形成的。溅射用靶材主要有In2O3、SnO2、MgO、w、Mo、Ni、Cu、Cr等。
3、存储用
根据存储技术的高密度和大容量硬盘的发展，需要大量的巨磁阻膜材料。一般来说，溅射靶材制备的相关膜产品包括硬盘、磁头光盘等。
当然，溅射靶材的用途不仅可以用于高温耐腐蚀、耐磨材料、装饰用品等行业，无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示、工件表面涂层等方面，都广泛应用于溅射靶材制备的各种溅射膜材料。
二、溅射靶材工作原理
溅射目标材料主要由目标空白、背板等部分组成。目标空白属于高速离子束流轰击的目标材料，是核心部分。在溅射涂层过程中，目标空白被离子冲击后，表面原子被溅射并沉积在基板上，形成电子薄膜。由于高纯金属强度低，但溅射目标需要安装在特殊机器内完成溅射过程，机器内部电压高，真空环境高，因此超高纯金属溅射目标需要通过不同的焊接工艺与背板连接，背板主要发挥固定溅射目标的作用，导电性好，导热性好。
以上是对于溅射靶材是干什么用的这一问题的解答，经过以上介绍可知溅射靶材可用于微电子领域、显示器、存储用及高温耐蚀、耐磨材料、装饰用品等行业，用途非常广泛。
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